PVD真空鍍膜具有沉積速度快和表面清潔的特點(diǎn)，特別具有膜層附著力強(qiáng)、繞性好、可鍍材料廣泛等優(yōu)點(diǎn)。 采用全球先進(jìn)的磁控濺射離子鍍膜和多弧離子鍍膜工藝設(shè)備，及在此基礎(chǔ)之上與國(guó)際專(zhuān)家的工藝創(chuàng)新。憑借在裝飾鍍行業(yè)十多年的寶貴經(jīng)驗(yàn)，為客戶(hù)提供適合的涂層加工方案。

    PVD真空鍍膜抗氧化，抗腐蝕，耐腐蝕，化學(xué)性能穩(wěn)定，抗酸。手機(jī)外殼PVD鍍膜抵抗力，鍍膜外殼容易清除油漆和指紋。在強(qiáng)烈的陽(yáng)光，咸的濕地和城市環(huán)境下，都不失去光澤，不氧化，不褪色，不脫落。高度耐磨損，耐刮擦，不易劃傷。

     跟著真空鍍膜加工等鍍膜技術(shù)運(yùn)用范疇的拓展，其面臨的技術(shù)難點(diǎn)有以下一些方面，例如：

1、設(shè)備出資大，真空電鍍加工槽的制備技術(shù)規(guī)范高，央求嚴(yán)，使一般出資者望而止步;

2、一般的真空鍍膜加工出產(chǎn)中需要直流電，動(dòng)力耗費(fèi)大;

3、而一般的真空鍍膜加工本錢(qián)高，因運(yùn)用鍍層金屬陽(yáng)極名貴，故而綁縛其運(yùn)用方案;

    當(dāng)需要有效地利用太陽(yáng)熱能時(shí)，就要考慮采用對(duì)太陽(yáng)光線(xiàn)吸收較多、而對(duì)熱輻射等所引起的損耗較小的吸收面。太陽(yáng)光譜的峰值大約在波長(zhǎng)為2-20μm之間的紅外波段。由于太陽(yáng)輻射與熱輻射光譜在波段上有差異，因此，為了有效地利用太陽(yáng)熱能，就必須考慮采用具有波長(zhǎng)選擇特性的吸收面。

    超硬面熱噴涂加熱金屬的方法：有利用電阻產(chǎn)生的熱能，也有利用電子束的。在對(duì)塑料制品實(shí)施蒸鍍時(shí)，為了確保金屬冷卻時(shí)所散發(fā)出的熱量不使樹(shù)脂變形，必須對(duì)蒸鍍時(shí)間進(jìn)行調(diào)整。此外，熔點(diǎn)、沸點(diǎn)太高的金屬或合金不適合于蒸鍍。

    3D打印高球形粉末置待鍍金屬和被鍍塑料制品于真空室內(nèi)，采用一定方法加熱待鍍材料，使金屬蒸發(fā)或升華，金屬蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金屬薄膜。在真空條件下可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向塑料制品過(guò)程中和其他分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)(如氧化等)，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與附著力。